X-ray spectral analysis of the interface of a thin...

Physics of the Solid State 2004 / 06 Vol. 46; Iss. 6

X-ray spectral analysis of the interface of a thin Al2O3film prepared on silicon by atomic layer deposition

A. S. Shulakov, A. P. Braiko, S. V. Bukin, V. E. Drozd
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Volume:
46
Langue:
english
Pages:
4
DOI:
10.1134/1.1767259
Date:
June, 2004
Fichier:
PDF, 76 KB
english, 2004
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