Modified method of plasma-enhanced chemical vapor...

Technical Physics Letters 1998 / 10 Vol. 24; Iss. 10

Modified method of plasma-enhanced chemical vapor deposition of nanocrystalline silicon

V. G. Golubev, A. V. Medvedev, A. B. Pevtsov, N. A. Feoktistov
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Volume:
24
Langue:
english
Pages:
2
DOI:
10.1134/1.1262256
Date:
October, 1998
Fichier:
PDF, 47 KB
english, 1998
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